單晶硅納米力學(xué)性能的測(cè)試主要通過?納米壓痕技術(shù)?進(jìn)行,這是一種通過在試樣表面施加逐漸增大的載荷,使試樣經(jīng)歷彈性變形、延性變形直至脆性斷裂的過程,并記錄加載-卸載曲線,從而獲取材料的硬度、彈性模量等關(guān)鍵力學(xué)參數(shù)的方法。
單晶硅納米力學(xué)性能測(cè)試機(jī)基本原理:
在單晶硅表面施加漸進(jìn)載荷,通過金剛石壓頭(如Vickers型)壓入材料表面,記錄載荷-位移曲線(加載-卸載曲線)。
壓入過程分為三個(gè)階段:彈性變形 → 塑性變形 → 脆性斷裂。通過分析曲線斜率、壓痕深度等數(shù)據(jù),計(jì)算硬度(Hardness) 和 彈性模量(Elastic Modulus)。

單晶硅納米力學(xué)性能測(cè)試機(jī)技術(shù)參數(shù):
1. 產(chǎn)品規(guī)格: MX-0230
2. 精度等級(jí): 0.5級(jí)
3. 負(fù)荷:1N/5N/10N/20N/50N/100N/200N/ 500N(任選或多選)
4. 有效測(cè)力范圍:0.1/100-100;
5. 試驗(yàn)力分辨率,負(fù)荷±500000碼;內(nèi)外不分檔,且全程分辨率不變。
6. 位移分辨率:0.0001mm
7. 變形分辨率:0.0001mm
8. 有效試驗(yàn)寬度:120mm
9. 有效試驗(yàn)空間:300mm
10. 試驗(yàn)速度:0.001~300mm/min(任意調(diào))
11. 速度精度:示值的±0.5%以內(nèi);
12.位移測(cè)量精度:示值的±0.5%以內(nèi);
13.變形測(cè)量精度:示值的±0.5%以內(nèi);
14.應(yīng)力控速率范圍: 0.005%~6%FS/S
15.應(yīng)力控速率精度: 速率<0.05%FS/S時(shí),為設(shè)定值的±1%以內(nèi);速率≥0.05%FS/S時(shí),為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi);
16.應(yīng)變控速率范圍: 0.002%~6%FS/S
17.應(yīng)變控速率精度: 速率<0.05%FS/S時(shí),為設(shè)定值的±2%以內(nèi);速率≥0.05%FS/S時(shí),為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi);
18. 恒力/位移/變形測(cè)量范圍:0.5%~100FS
19.恒力/位移/變形測(cè)量精度:設(shè)定值<10%FS時(shí), 為設(shè)定值的±1%以內(nèi); 設(shè)定值≥10%FS時(shí), 為設(shè)定值的±0.1%以內(nèi);
20.試臺(tái)升降裝置:快/慢兩種速度控制,可點(diǎn)動(dòng);
21.試臺(tái)安全裝置:電子限位保護(hù)
22.試臺(tái)返回:手動(dòng)可以高速度返回試驗(yàn)初始位置,自動(dòng)可在試驗(yàn)結(jié)束后自動(dòng)返回;
23.試驗(yàn)定時(shí)間自動(dòng)停車,試驗(yàn)定變形自動(dòng)停車,試驗(yàn)定負(fù)荷自動(dòng)停車
24.超載保護(hù):超過大負(fù)荷10%時(shí)自動(dòng)保護(hù);
25. 自動(dòng)診斷功能,定時(shí)對(duì)測(cè)量系統(tǒng)、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)進(jìn)行過載、過壓、過流、超負(fù)荷等檢查,出現(xiàn)異常情況立即進(jìn)行保護(hù)
26.電源功率: 200W
27.主機(jī)重量: 40kg
28. 電源電壓: 220V(單相)
29. 主機(jī)尺寸:430*315*855mm